Elektronstraal-sweis in growwe vakuum
Elektronstraal-sweis in growwe vakuum gebruik 'n meer evakueerde omgewing as klassieke elektronstraalsweis om die evakueringstyd te verkort en sodoende die sweisproses te versnel.
Fisies-chemiese werkingsmeganisme
Elektronstraal-sweis in growwe vakuum gebruik 'n laer vakuumvlak as klassieke elektronstraalsweis. Dit maak dit moontlik om die evakueringstyd te verkort en die sweisproses vinniger af te handel.
Metallurgiese relevansie & risiko's by sweis
Die verkorte evakueringstyd kan tot laer ontbranding van die metale lei, wat die kwaliteit van die sweisnaad kan beïnvloed. Daar is ook die risiko van porievorming en 'n ongelykmatige sweisdeurgang.
Werkswinkelpraktyk & instruksies
Om elektronstraal-sweis in growwe vakuum uit te voer, moet die kamer se vakuumvlak op ongeveer 10^-3 mbar ingestel word. Die sweistyd moet nie langer as 2 sekondes wees om optimale kwaliteit van die sweisnaad te verseker nie.