Hoëdruk-waterstraal-ontskaling
Die oopbreek en verwydering van termiese oksiedlae van warmgevormde halfprodukte met behulp van gefokusde waterstrale by druk bo 100 MPa. Dit vermy chemiese sure by die primêre skaalverwydering.
Waterstraal-afskilfering is 'n suiwer meganiese proses. Jy neem 'n hoëdruk-waterstraal en skiet daarmee die skilferlaag van die oppervlak af. Dit werk sonder chemikalieë en is goed vir materiale wat jy nie met suur wil behandel nie.
Dit is belangrik dat jy die druk en die afstand tot die oppervlak reg instel. As die straal te swak is of jy gaan te vinnig daaroor, bly skilfers oor. As jy te lank op een plek bly, kan jy die grondmateriaal aantas.
Vir sweiswerk is dit goed, want jy kry 'n skoon, metaalglansende oppervlak. Maar ná die afskilfering moet jy oppas dat die oppervlak nie weer oksideer of vuil word voordat jy sweis nie.