Hogedrukwaterstraal-ontzanding
Het openbreken en verwijderen van thermische oxidatielagen van warmgevormde halffabricaten met behulp van gefocuste waterstralen bij drukken boven 100 MPa. Dit vermijdt chemische zuren bij de primaire verwijdering van walshuid.
Ontzouten met een waterstraal is een puur mechanisch proces. Je neemt een hogedrukwaterstraal en schiet daarmee de walshuidlaag van het oppervlak. Het werkt zonder chemie en is goed voor materialen die je niet met zuur wilt behandelen.
Het is belangrijk dat je de druk en de afstand tot het oppervlak goed instelt. Als de straal te zwak is of je gaat te snel overheen, blijft er walshuid achter. Als je te lang op één plek blijft, kun je het basismateriaal aantasten.
Voor het lassen is dit goed omdat je een schoon, metallisch blank oppervlak krijgt. Maar na het ontzouten moet je opletten dat het oppervlak niet weer aanslaat of vervuilt voordat je last.