Orbital plazma kaynağı
Kök pasosu ve proses kararlılığı konusunda yüksek gereksinimleri olan borular için sıkıştırılmış plazma arkıyla yüksek hassasiyetli kaynak yöntemi.
Orbital plazma kaynağı, TIG kaynağının özel bir biçimidir. Ark, bir tungsten elektrot ile iş parçası arasında yanar ve plazma bir memeden sıkıştırılır. "Orbital etki" ek bir fiziksel etki değildir; torcun boru etrafında makineli olarak ilerletilmesini ifade eder.
Avantajı çok iyi tekrarlanabilirlik ve dar nüfuziyettir, bu da ısıdan etkilenen bölgeyi küçük tutar. Ancak akımı, kaynak hızını ve gaz son akışını dikkatle ayarlamalısın, yoksa düzensiz bir dikiş veya nüfuziyet hataları elde edersin. Kenarların temizliği ve boru uçlarının tam hazırlanması burada en önemli şeydir, normal TIG kaynağından daha da fazla.