Plasmastråle-impulstæthed
Plasmastråle-impulstæthed er produktet af densitet og kvadratet på strømningshastigheden i den fokuserede plasmastråle. Den bestemmer den mekaniske skyllevirkning.
Fysisk-kemisk virkningsmekanisme
Plasmastrålens impulstæthed beregnes som produktet af plasmaets tæthed og kvadratet på dets strømningshastighed. Denne størrelse angiver, hvor kraftigt plasmaet skyller overfladen, og hvor meget mekanisk energi der overføres til det sted, der skal svejses.
Metallurgisk relevans & risici ved svejsning
En høj impulstæthed i plasmastrålen fører til en intensiv skylning af overfladen, hvilket bidrager til, at metallet er rent og frit for urenheder. Det forbedrer svejsekvaliteten og forhindrer pore-dannelse. En for høj impulstæthed kan dog også føre til termiske overbelastninger, som kan give revner eller deformationer i materialet.
Værkstedspraksis & handlingsanvisninger
For at opnå en optimal impulstæthed i plasmastrålen bør strømningshastigheden holdes mellem 20 og 40 m/s. Plasmaets tæthed bør ligge mellem 1 og 3 g/cm³. Ved en impulstæthed over 50 N/mm² kan der opstå termiske overbelastninger, hvilket indebærer risici for svejsesømmens integritet. Det er derfor vigtigt at kontrollere indstillingerne af plasmastrålesystemet omhyggeligt før brug og tilpasse dem til de specifikke materialer og emner.