Pinna oksiidikihi eemaldamise kiirus
Pinna oksiidikihi eemaldamise kiirus kirjeldab, kui kiiresti eemaldatakse metalli pinnalt oksiidi räbusti või redutseerivate gaaside abil. Kõrge kiirus on puhta keevisõmbluse jaoks hädavajalik.
Füüsikalis-keemiline toimemehhanism
Pinna oksiidikihi eemaldamise kiirus viitab sellele, kui kiiresti eemaldatakse metalli pinnalt oksiidi keemiliste reaktsioonide teel. See toimub kas räbusti, mis seob hapnikku, või redutseerivate gaaside abil, mis muudavad oksiidi vähem oksüdeerunud materjaliks.
Metallurgiline tähtsus ja riskid keevitamisel
Liiga väike eemaldamiskiirus põhjustab oksiidide jäämist kontaktpinnale ja keevisõmbluse saastumist. See võib põhjustada pooride teket, pragusid ja ühenduse halba tugevust. Kõrge kiirus seevastu tagab puhta kontaktpinna ja parandab keevisõmbluse kvaliteeti.
Töökoja praktika ja tegevusjuhised
Tõhusa pinna oksiidikihi eemaldamise kiiruse tagamiseks tuleks metalli ettevalmistamisel kasutada räbusti või redutseerivaid gaase. Kõrge süsinikusisaldusega teraste puhul on eriti oluline vältida oksüdeerumist keevitusprotsessi ajal. Tüüpiline eemaldamiskiirus on vedelike puhul umbes 10-20 µm/min ja gaaside puhul 5-10 µm/min.