Interstitsiaalne difusioon
Interstitsiaalne difusioon on aatomite kiire vahetus võre tühikutte kaudu, ilma et need hõivaksid regulaarseid positsioone. See mõjutab materjali koostist ja omadusi.
Füüsikalis-keemiline toimemehhanism
Interstitsiaalne difusioon kirjeldab protsessi, kus aatomid või ioonid liiguvad kristalli võre joonte vahelistes tühikutesse. Need aatomid võivad olla väiksemad võõraatomid, mis tungivad võresse ja stabiliseeruvad seal, ilma et nad peaksid võtma regulaarseid võrekohti.
Metallurgiline tähtsus ja riskid keevitamisel
Interstitsiaalne difusioon on otsustav teraste deformeeritavuse ja tugevuse jaoks. Liiga suured difusioonikiirused võivad põhjustada võre tihenemist, mis suurendab sitkust, kuid samal ajal vähendab vastupidavust. Vale keevitustemperatuuri või liiga aeglase jahtumise korral võib materjal jämedaks muutuda ja selle mehaanilised omadused halveneda.
Töökoja praktika ja tegevusjuhised
Optimaalse difusioonikiiruse tagamiseks on oluline täpselt seada keevitustemperatuur ja -aeg. Kõrge süsinikusisaldusega teraste puhul tuleks jahtumisetapid läbi viia aeglaselt (t8/5 > 25 s), et vältida võre ebaühtlast jämenemist. Madala süsinikusisalduse korral võib kiirem jahtumine (t8/5 < 5 s) olla sobiv, et vältida klaaskõva struktuuri teket.