सतह ऑक्साइड परत हटाने की दर

भौतिक-रासायनिक क्रियाविधि

सतह ऑक्साइड परत हटाने की दर उस गति को संदर्भित करती है जिससे धातु की सतह पर ऑक्साइड रासायनिक अभिक्रियाओं द्वारा हटाया जाता है। यह या तो फ्लक्स द्वारा होता है, जो ऑक्सीजन को बांधता है, या अपचायक गैसों द्वारा, जो ऑक्साइड को कम ऑक्सीकृत सामग्री में बदल देती हैं।

धातुकर्मीय प्रासंगिकता और वेल्डिंग में जोखिम

बहुत कम हटाने की दर के कारण संपर्क सतह पर ऑक्साइड रह जाते हैं और वेल्ड सीम को दूषित करते हैं। इससे छिद्र निर्माण, दरारें और जोड़ की खराब मजबूती हो सकती है। इसके विपरीत, उच्च दर साफ संपर्क सतह सुनिश्चित करती है और वेल्ड सीम की गुणवत्ता में सुधार करती है।

कार्यशाला व्यवहार और कार्रवाई निर्देश

प्रभावी सतह ऑक्साइड परत हटाने की दर सुनिश्चित करने के लिए, धातु की तैयारी में फ्लक्स या अपचायक गैसों का उपयोग किया जाना चाहिए। उच्च कार्बन सामग्री वाले स्टील्स में, वेल्डिंग प्रक्रिया के दौरान ऑक्सीकरण को रोकना विशेष रूप से महत्वपूर्ण है। तरल पदार्थों में एक विशिष्ट हटाने की दर लगभग 10-20 µm/min और गैसों में 5-10 µm/min होती है।