ऑक्सीजन-प्रेरित छिद्र
ऑक्सीजन-प्रेरित छिद्र गलन स्नान में कार्बन और घुले हुए ऑक्सीजन की प्रतिक्रिया से कार्बन मोनोऑक्साइड बनने से उत्पन्न होते हैं। ये वेल्ड सीम की भार क्षमता को प्रभावित करते हैं।
भौतिक-रासायनिक क्रियाविधि
कार्बन अणु तरल गलन स्नान में घुले हुए ऑक्सीजन के साथ प्रतिक्रिया करके कार्बन मोनोऑक्साइड (CO) बनाते हैं। यह प्रक्रिया ऑक्सीजन का उपभोग करती है और छिद्र बनाती है।
धातुकर्मीय प्रासंगिकता और वेल्डिंग में जोखिम
ऑक्सीजन-प्रेरित छिद्र वेल्ड सीम की मजबूती और यांत्रिक गुणों को कम करते हैं। ये दरारों और विकृतियों का कारण बन सकते हैं, विशेष रूप से भार के तहत। छिद्रों की अधिक संख्या सामग्री की तनुता को भी कम कर सकती है।
कार्यशाला अभ्यास और कार्रवाई निर्देश
ऑक्सीजन-प्रेरित छिद्रों से बचने के लिए, गलन स्नान में ऑक्सीजन सामग्री को कम करना महत्वपूर्ण है। यह अच्छे डीऑक्सीडेशन द्वारा प्राप्त किया जा सकता है, जैसे सिलिकॉन या अन्य डीऑक्सीडेशन एजेंट का उपयोग करके। पर्याप्त शीतलन थ्रॉटलिंग और वेल्ड सीम का सावधानीपूर्वक ठंडा करना भी छिद्र निर्माण को कम करने में मदद करता है।