Inhibirano kiselinsko čišćenje
Inhibirano kiselinsko čišćenje je kemijski postupak čišćenja u kojem se metalne površine čiste u kiselim otopinama, dok posebni organski spojevi sprječavaju adsorpciju na aktiviranim katodnim ili anodnim mjestima. To jako smanjuje nekontrolirano nagrizanje osnovnog metala.
Fizikalno-kemijski mehanizam djelovanja
Inhibirano kiselinsko čišćenje koristi kisele otopine za čišćenje metalnih površina. Pritom se posebni organski spojevi (inhibitori) adsorbiraju na aktiviranim katodnim ili anodnim mjestima površine. Te adsorpcije sprječavaju izravan kontakt metala s kiselim medijem, što potiskuje nekontrolirano nagrizanje osnovnog metala.
Metalurška važnost i rizici pri zavarivanju
Bez inhibitora kontakt metala i kisele otopine za čišćenje može dovesti do jake korozije koja oštećuje površinu i narušava kvalitetu zavara. Primjenom inhibitora ta se korozija smanjuje, što osigurava čišću i stabilniju metalnu površinu.
Radionička praksa i upute za rad
Za inhibirano kiselinsko čišćenje koristi posebne organske spojeve u kiselim otopinama za čišćenje. Provjeri da je koncentracija inhibitora ispravna (obično 0,1 do 1 %). Vrijeme čišćenja treba biti između 5 i 30 minuta, ovisno o vrsti metala i željenom stupnju čistoće. Nakon čišćenja površina se mora dobro osušiti kako bi se stvorila čista podloga za zavarivanje.