Pembentukan gelembung pada lapisan pelindung
Pembentukan gelembung pada lapisan pelindung terjadi karena terperangkapnya gas atau proses osmotik, yang menyebabkan hilangnya daya rekat film dan memicu korosi.
Mekanisme kerja fisika-kimia
Pembentukan gelembung pada lapisan pelindung terjadi ketika gas seperti oksigen atau hidrogen masuk ke dalam film dan menumpuk membentuk gelembung. Proses osmotik juga dapat menarik udara melalui film dan membentuk gelembung.
Relevansi metalurgi & risiko saat pengelasan
Gelembung ini dapat menghilangkan daya rekat film lapisan pelindung pada permukaan, yang menyebabkan korosi pada logam dasar. Gelembung juga dapat menembus film secara mekanis dan menyebabkan retak.
Praktik bengkel & instruksi kerja
Untuk mencegah pembentukan gelembung, lapisan pelindung harus kering dan bebas gelembung udara saat aplikasi. Saat penugasan, diperlukan pemeriksaan film yang cermat. Untuk bahan pelindung korosi, harus dipastikan kondisi kering dan bebas udara.