구상 석출

물리화학적 작용 메커니즘

구상 석출은 금속 기지 내에 둥근 입자가 의도적으로 형성되면서 발생한다. 이 입자는 실리콘이나 니켈 같은 다양한 재료로 구성될 수 있으며, 결정 구조 내의 전위 이동을 차단하는 역할을 한다.

야금학적 관련성 및 용접 시 위험

구상 석출은 강의 경도를 높이고 기계적 특성을 향상시킨다. 그러나 제어되지 않은 석출 과정은 용접부를 취화시켜 열간 균열과 낮은 인성을 초래할 수 있다. 최적의 용접부를 보장하려면 석출을 제어하는 것이 중요하다.

작업장 실무 및 조치 지침

구상 석출을 성공적으로 구현하려면 석출 재료의 용융풀 함량을 정확하게 제어해야 한다. 실리콘 석출이 있는 강의 경우 최적 함량은 일반적으로 0.1%에서 0.3% 사이이다. 균일한 석출을 보장하려면 용접부를 천천히 냉각해야 한다 (t8/5 > 25 s). 냉각이 너무 빠르면 석출이 불규칙해지고 취화를 초래할 수 있다.