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키홀 형성

키홀 형성은 고에너지 빔 공정으로 용융지에 증기로 채워진 채널을 만드는 것이다. 이를 통해 복사 에너지의 다중 반사를 통해 깊은 용입이 가능해진다.

물리화학적 작용 메커니즘

고에너지 빔(예: 레이저 용접)이 용접부 용융지에 침투하여 여러 번 반사될 때 스티치 채널이 형성된다. 이러한 반사는 에너지를 작은 점에 집중시켜 강한 용입을 일으킨다.

야금학적 관련성 및 용접 위험

스티치 채널 형성은 매우 깊고 정밀한 용입을 가능하게 하여 정밀 기계나 미세 구조 제작에 유용하다. 그러나 강재가 짧은 시간에 급격히 가열되므로 고온 균열 위험이 증가한다. 너무 빠른 냉각은 마르텐사이트를 생성하여 강재를 경화시키고 균열에 취약하게 만들 수 있다.

현장 실무 및 작업 지침

스티치 채널 형성을 효과적으로 활용하려면 용융지를 잘 덮어 반사를 촉진해야 한다. 원하는 용입을 얻으려면 빔 에너지를 정확히 설정해야 한다. 용접 후에는 고온 균열을 방지하기 위해 제어된 냉각이 필요하다. 권장 냉각 시간은 재료와 판 두께에 따라 다르지만, 일반적으로 10에서 30초 사이여야 한다.

MetallurgieSchweißtechnik