Plazminis-cheminis paviršiaus apdorojimas
Plazminis-cheminis paviršiaus apdorojimas modifikuoja metalo paviršinius sluoksnius jonizuotomis dujų dalelėmis vakuume arba esant žemam slėgiui. Jis išvalo ir funkcionalizuoja paviršių prieš dengimą.
Fizikinis-cheminis veikimo mechanizmas
Plazminis-cheminis paviršiaus apdorojimas naudoja jonizuotas dujų daleles, kurios reaguoja su metalo paviršiumi. Šios dalelės gali sukelti chemines reakcijas ir išvalyti arba modifikuoti paviršių.
Metalurginė svarba ir rizika suvirinant
Šis apdorojimas pagerina sukibimo savybes dangoms ir sumažina koroziją. Tačiau neteisingi parametrai gali sukelti nepilną valymą arba pažeistą paviršių, o tai pablogina suvirinimo rezultatą.
Dirbtuvių praktika ir veiksmų nurodymai
Įsitikinkite, kad apdorojimas atliekamas tinkamomis slėgio ir temperatūros sąlygomis. Reguliariai tikrinkite valymo efektyvumą ir atitinkamai koreguokite parametrus.