Skenavimo strategija miltelių sluoksnyje
Skenavimo strategija miltelių sluoksnyje apibrėžia lazerio pluošto judėjimą suvirinant su milteliais. Ji valdo šilumos įvedimą ir sumažina šiluminius vėlavimus.
Fizikinis-cheminis veikimo mechanizmas
Skenavimo strategija miltelių sluoksnyje nustato, kaip lazerio pluoštas juda per miltelių sluoksnį. Tai veikia šilumos įvedimą ir vietinę medžiagos deformaciją.
Metalurginė reikšmė ir rizika suvirinant
Netinkama skenavimo strategija gali sukelti netolygią deformaciją, šiluminius įtempimus ir nesulydymą. Tai padidina įtrūkimų ir suirimo riziką suvirinimo siūlėje.
Dirbtuvių praktika ir veiksmų nurodymai
Daugeliui atvejų naudok linijinę skenavimo strategiją, kurios greitis nuo 1,5 iki 3 mm/s. Stebėk, kad atstumas tarp lazerio ir miltelių sluoksnio būtų pastovus (paprastai nuo 20 iki 40 mm). Pritaikyk skenavimo kryptį prie suvirinamo objekto geometrinės formos, kad užtikrintum tolygų šilumos įvedimą.