Titāna plazmas nitrēšana

Plazmas nitrēšana ir virsmas cietināšanas metode, ko izmanto arī titāna sakausējumiem. Plazmas vidē slāpeklis tiek ievadīts virsmas slānī, veidojot cietu, nodilumizturīgu slāni. Tomēr procesa vadība ir delikāta, jo slāņa veidošanās lielā mērā ir atkarīga no virsmas tīrības un precīza gāzu sastāva. Ja parametrus nenosaka precīzi, tu iegūsi vai nu pārāk plānu slāni, vai riskēsi ar atslāņošanos pārāk lielu iekšējo spriegumu dēļ. Pirms nitrēšanas detaļai jābūt absolūti attaukotai un sausai, un pēc procesa tai jāatdzesējas lēni, lai neveidotos plaisas.