Phun bi thủy tinh
Phun bi thủy tinh dùng hạt thủy tinh vi tinh thể phun lên kim loại để tạo ứng suất nén dư và đồng nhất hóa bề mặt. Điều này ngăn mài mòn vật liệu.
Cơ chế tác động hóa lý
Phun bi thủy tinh dùng hạt thủy tinh vi tinh thể phun lên kim loại. Những hạt này có độ cứng cao và có thể tạo ứng suất nén dư vi mô trên bề mặt mà không mài mòn vật liệu. Đồng thời cấu trúc vi mô được đồng nhất hóa, cải thiện chất lượng quang học.
Ý nghĩa luyện kim & rủi ro khi hàn
Việc tạo ứng suất nén dư xác định bằng phun bi thủy tinh có thể cải thiện độ dai và khả năng biến dạng của vật liệu. Tuy nhiên, áp dụng sai hoặc năng lượng quá cao có thể gây hư hại bề mặt, ảnh hưởng đến chất lượng hàn.
Thực hành xưởng & hướng dẫn thao tác
Sử dụng phun bi thủy tinh khi chuẩn bị tấm kim loại để hàn. Đảm bảo cài đặt năng lượng đúng (thường từ 50 đến 100 W). Thời gian phun thường từ 3 đến 5 giây trên mỗi cm vuông. Luôn theo dõi bề mặt để phát hiện thay đổi và điều chỉnh cài đặt khi cần.