Tốc độ loại bỏ lớp oxit bề mặt
Tốc độ loại bỏ lớp oxit bề mặt mô tả mức độ nhanh chóng oxit trên bề mặt kim loại được loại bỏ nhờ chất trợ dung hoặc khí khử. Tốc độ cao là điều kiện tiên quyết cho mối hàn sạch.
Cơ chế tác động lý hóa
Tốc độ loại bỏ lớp oxit bề mặt đề cập đến tốc độ mà oxit trên bề mặt kim loại được loại bỏ bằng các phản ứng hóa học. Điều này xảy ra hoặc nhờ chất trợ dung liên kết oxy, hoặc nhờ khí khử chuyển oxit thành vật liệu ít bị oxy hóa hơn.
Tầm quan trọng luyện kim & rủi ro khi hàn
Tốc độ loại bỏ quá thấp khiến oxit còn lại trên bề mặt tiếp xúc và làm bẩn mối hàn. Điều này có thể dẫn đến rỗ khí, nứt và độ bền liên kết kém. Ngược lại, tốc độ cao đảm bảo bề mặt tiếp xúc sạch và cải thiện chất lượng mối hàn.
Thực hành xưởng & hướng dẫn thao tác
Để đảm bảo tốc độ loại bỏ lớp oxit bề mặt hiệu quả, nên dùng chất trợ dung hoặc khí khử khi chuẩn bị kim loại. Với thép có hàm lượng cacbon cao, việc ngăn chặn oxy hóa trong quá trình hàn đặc biệt quan trọng. Tốc độ loại bỏ điển hình đối với chất lỏng khoảng 10-20 µm/min và đối với khí là 5-10 µm/min.