Mật độ xung tia plasma
Mật độ xung tia plasma là tích của mật độ và bình phương vận tốc dòng chảy trong tia plasma được hội tụ. Nó quyết định tác động xói mòn cơ học.
Cơ chế tác động lý hóa
Mật độ xung tia plasma được tính bằng tích của mật độ plasma và bình phương tốc độ dòng chảy của nó. Đại lượng này cho biết plasma rửa bề mặt mạnh đến mức nào và năng lượng cơ học nào được truyền đến vị trí hàn.
Tầm quan trọng luyện kim & rủi ro khi hàn
Mật độ xung tia plasma cao dẫn đến rửa bề mặt mạnh, giúp kim loại sạch và không có tạp chất. Điều này cải thiện chất lượng hàn và ngăn ngừa hình thành lỗ khí. Tuy nhiên, mật độ xung quá cao cũng có thể dẫn đến quá tải nhiệt, gây nứt hoặc biến dạng vật liệu.
Thực hành xưởng & hướng dẫn thao tác
Để đạt được mật độ xung tia plasma tối ưu, nên duy trì phạm vi tốc độ dòng chảy từ 20 đến 40 m/s. Mật độ plasma nên nằm trong khoảng từ 1 đến 3 g/cm³. Với mật độ xung trên 50 N/mm² có thể xảy ra quá tải nhiệt, gây rủi ro cho tính toàn vẹn của mối hàn. Do đó, điều quan trọng là phải kiểm tra cẩn thận các cài đặt của hệ thống tia plasma trước khi sử dụng và điều chỉnh cho phù hợp với vật liệu và chi tiết cụ thể.